電解質を含まないpH9.5～pH5.0の超純水電解水を製造可能な電解システム

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DNニュース

2005年07月19日

電解質を含まないpH9.5～pH5.0の超純水電解水を製造可能な電解システム

　
　荏原実業は、pH9.5～pH5.0の超純水電解水を製造できる｢超純水電解システム｣を開発した。超純水を直接電気分解して、電解質を含まない超純水電解水を作ることができるシステム。韓国の電解装置関連企業と共同開発したもので、国内販売は9月に開始する予定。半導体製造分野を中心に拡販し、初年度3億円、3年後に15億円の販売を目指す。

　半導体製造プロセスにおける洗浄では、環境負荷の低減や、薬品による回路エッチングロス回避のため、薬品を使用しない新たな洗浄方法が求められている。これに対応した従来型の電解水製造システムは、生成した電解水が超純水や純水でなく電解質イオンを含んでいるので、超純水や純水を使った洗浄工程が別途必要となる。

　今までの製造手法では、超純水や純水を直接電気分解してもpH値は大きく変わらない。そのため電解水に各種ガスなどを注入してpH値を制御し、機能水として利用していた。

　今回開発した超純水電解システムでは、超純水を直接電気分解することで、pHと酸化還元電位をpH9.5/－600mV以下からpH5.0/＋800mV以上の範囲で任意に設定可能な超純水電解水を生成できる。生成する超純水電解水は電解質を含まないので、エッチングによる回路損傷を発生させない。化学薬品を最小限注入すればさらに広範囲のpH設定が可能で、RCA洗浄のSC-1/SC-2以上の洗浄力が得られる。

　「生成した電解水は超純水の洗浄効果と電解水の洗浄効果を併せ持ち、半導体製造プロセスにおいて必要だった薬品の注入などが不要になるため、洗浄工程の削減が可能」(同社)

　洗浄可能な対象物は、有機物、金属類、微粒子、硫酸イオン、シリカスラッジ。フォトマスク洗浄、ウェーハ表面洗浄、半導体製造時の洗浄、液晶および光学レンズ洗浄に使用できる。装置外寸は、幅1050mm、奥行き1500mm、高さ1800mm。

韓国のフォトマスクメーカーに納入された｢超純水電解システム｣

参　　考：荏原実業(プレスリリース) [PDF]