数ナノレベルで金属薄膜を測定可能な蛍光X線膜厚計

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DNニュース

2006年05月15日

数ナノレベルで金属薄膜を測定可能な蛍光X線膜厚計

　
　エスアイアイ・ナノテクノロジー(SIIナノテク)は、金属薄膜の膜厚を高い精度で測定する蛍光X線膜厚計「SFT9500」を発売した。X線集光光学系(キャピラリ)の採用で直径0.1mmの微小ビームを高輝度化しており、数ナノレベルの薄膜を精度よく測定できる。欧州RoHSおよびELV指令で規制される有害物質の微小部における測定も可能。試料ステージの大きさは、220mm(X)×150mm(Y)×150mm(Z)。価格は1,450万円となる。

　SFT9500は、めっきや蒸着などで形成した金属薄膜の膜厚を測る装置。X線発生系としてキャピラリとX線源を組み合わせ、実照射0.1mm(直径)で従来の最大50倍のX線強度を検出可能とした。これまでの蛍光X線膜厚計では照射強度不足で十分な精度が得られなかったリードフレーム、コネクタ、フレキシブル基板などの微小な薄膜も測定できる。また、Au/Pd/Ni/CuやAu/Ni/Ti/Siなどの多層膜において、各層厚みを数ナノレベルで同時に測定することが可能だ。

　微小ビームによるマッピング測定機能を備え、試料のめっき厚み分布や特定元素の含有分布を容易かつ迅速に観察できる。また、高分解能の液化窒素レス半導体検出器を搭載し、測定試料中の微量元素の検出にも対応する。高輝度微小ビームと高計数率検出器を組み合わせると、異物分析も行える。

蛍光X線膜厚計「SFT9500」

連絡先：

エスアイアイ・ナノテクノロジー
営業総括部
TEL：06-6871-8453

参　考：

エスアイアイ・ナノテクノロジー(ニュースリリース)

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