スループット1万2000平方mm／分、
描画グリッド0.4μmの大面積フォトマスク向けレーザー描画装置

　マイクロニックジャパンは、大面積フォトマスクの量産に適したレーザー描画装置「FPS5100」を発表した。スループットは1万2000平方mm／分あり、メイン描画グリッドは最小0.4μmまで対応できる。価格や提供開始時期などの詳細は明らかにしていない。

　FPS5100は、マイクロニックの描画機「LRSライン」をベースとする製品である。先進の半導体パッケージングや単純マトリックス駆動型TNおよびSTN液晶ディスプレイなど、大面積アプリケーション用フォトマスクの大量生産に適している。

　マイクロニックでは、「最小の所有コストを提供するとともに、ターンアラウンドタイムを短縮し、製造計画の策定を容易にする」と述べる。