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DNニュース

2006年12月05日

日本セラテック、東北大学と耐食性に優れる緻密セラミック膜を開発

 日本セラテックは、東北大学未来科学技術共同研究センター(大見忠弘教授)と、半導体製造装置部材の耐食性を向上するセラミックス膜の開発に成功した。エッチングなどで使用されるガス・プラズマによる腐食を防ぐために、イットリア(Y2O3)セラミックス焼結体が使用されているが、従来のコーティング技術では膜中に10ミクロンほどの穴が生じ耐食性能が劣化する原因になってきた。新しく開発された方法では、Y2O3結晶粒子を300ナノメートルの薄膜でコーティングでき、ナノメートル・レベルの欠陥をほぼゼロにでき、製造装置の性能を長期にわたり維持することが可能になる。
 Y2O3結晶粒子を緻密に製膜できる技術は「UCコート」と名付けられ、真空容器などの特殊設備を必要とせず湿式工程で製膜するため、大型部品や複雑な形状にも容易に適用することができる。また、UCコートは従来技術で発生した膜表面の凹凸がない平滑な膜を形成することができ、透光性が高く透明の材料にコーティングしても透明度を損なうことがない。
 日本セラテックは、UCコートを12月6日から8日に幕張メッセで開催される「SEMICON Japan 2006」に出展し、12月から半導体および平板ディスプレイ製造装置用部材市場に向けてサンプル出荷を開始する。


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