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DNニュース

2007年09月05日

米アプライド、大型ガラス基板のシリコン薄膜太陽電池の製造ラインを発表

 
シリコン薄膜太陽電池モジュールの一貫製造ラインApplied SunFab Thin Film Line シリコン薄膜太陽電池モジュールの
一貫製造ラインApplied SunFab Thin Film Line

 米アプライド マテリアルズは、従来の4倍以上の面積がある大型ガラス基板によるシリコン薄膜太陽電池モジュールの一貫製造ライン「Applied SunFab Thin Film Line」を発表した。ガラス基板の大きさは2.2m×2.6mで5.7m2の面積があり、年間75MWの発電能力相当の太陽電池を生産でき、公共電力規模の建材一体型(BIPV)システムの設置コストを20%以上下げることが可能になる。

 Applied SunFab Lineは、フラットパネルディスプレイの製膜に量産実績があるPECVD(プラズマCVD)やPVD装置などのプロセス装置、オートメーション、排気除害などのシステム技術を組合せ、シングルジャンクションとタンデムジャンクションのいずれにも対応できる設計になっている。

PECVD(プラズマCVD)装置 PECVD(プラズマCVD)装置

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